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有 关于LPVD技术方面的知识，小编在此整里出来，给大家作为参考，下面就详细的介绍一下关于LPVD技术的相关内容。

1、 激光物理气相沉积(LaserPlysial VapourDepostion简称LPVD) 的基本原理是在真空室内安放靶材和基体。

2、激光照射于蒸镀材料的表面，利用激光的高能量使蒸镀材料加热蒸发，并在基体表面沉积形成膜层。

3、激光束经过聚集后有极高的能量密度，可以使包括非导电的陶瓷材料在内的几乎所有的高熔点材料直接蒸发。

4、激光束照射到靶材表面，使之发生溅射，剥离的物质沉积在基体上形成的纯净薄膜，又称激光剥离沉积。

5、。

关键词： 高熔点材料 物理气相沉积 基本原理